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碳納米膜制備設備如圖所示，由氣體質(zhì)量流量計控制系統、液體注液系統、多段溫度可控多區生長(cháng)系統、水冷卻系統、碳納米線(xiàn)或膜收集系統，紅外烘干系統等組成。

ZnO納米材料生長(cháng)設備，由氣體流量計控制系統、液體注液系統、多段溫度可控多區生長(cháng)系統、水冷卻系統、碳納米線(xiàn)或膜收集系統，紅外烘干系統組成。

CVD石墨烯制備雙溫區滑軌式CVD系統系統由預熱爐、雙溫區滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統、真空系統三部分組成。CVD（化學(xué)氣象沉積系統）常用于表面材料生長(cháng)、沉積，是一款實(shí)驗室常用設備

設備描述該石墨烯制備設備雙溫區滑軌式CVD系統系統由預熱爐、雙溫區滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統、真空系統三部分組成。CVD（化學(xué)氣象沉積系統）常用于表面材料生長(cháng)、沉積，是一款實(shí)驗室常用設備

設備描述該石墨烯制備設備雙溫區滑軌式CVD系統系統由預熱爐、雙溫區滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統、真空系統三部分組成。CVD（化學(xué)氣象沉積系統）常用于表面材料生長(cháng)、沉積，是一款實(shí)驗室常用設備

該石墨烯制備設備雙溫區滑軌式CVD系統系統由預熱爐、雙溫區滑軌爐、質(zhì)子流量控制系統、真空系統三部分組成。CVD（化學(xué)氣象沉積系統）常用于表面材料生長(cháng)、沉積，是一款實(shí)驗室常用設備